阿斯麦ceo谈中国出售28纳米光刻机

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阿斯麦High-NA EUV光刻机取得突破 成功印刷10纳米线宽图案荷兰阿斯麦公司宣布,其首台采用0.55数值孔径 投影光学系统的高数值孔径 极紫外 光刻机已经成功印刷出首批图案,这标志着ASML公司以及整个高数值孔径EUV光刻技术领域的一项重大里程碑。本文源自金融界AI电报

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(^人^) 阿斯麦CEO:世界需要中国生产的传统制程芯片荷兰光刻机巨头阿斯麦CEO克里斯托弗·富凯(Christophe Fouquet)表示,包括德国汽车行业在内的芯片买家需要中国芯片制造商目前投资的传... 欧盟正向欧洲芯片行业征求对中国扩大传统制程芯片产能的看法。 所谓传统制程芯片,又称成熟制程芯片,一般指28纳米制程以上的上一代芯片...

ˇ０ˇ 阿斯麦High-NA EUV光刻机取得重大突破荷兰阿斯麦 (ASML) 公司宣布,其首台采用 0.55 数值孔径 (NA) 投影光学系统的高数值孔径 (High-NA) 极紫外 (EUV) 光刻机已经成功印刷出首批... ASML 公司在声明中表示:“我们位于埃因霍芬的高数值孔径 EUV 系统首次印刷出 10 纳米线宽(dense line)图案。此次成像是在光学系统、传...